6 دقیقه
گزارشها حاکی است که گروهی از مهندسان چینی نمونهعملی (پروتوتایپ) عملکردی از سیستم لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) ساختهاند؛ پیشرفتی که میتواند شتاببخش تلاشهای پکن برای دستیابی به خودکفایی در صنعت نیمههادیها باشد و تعادل تأمین جهانی تراشهها را تحت تأثیر قرار دهد. این خبر توجه تحلیلگران فناوری، اقتصاددانان زنجیره تأمین و نهادهای سیاستگذاری را به خود جلب کرده است، زیرا لیتوگرافی EUV یکی از مشخصههای تعیینکننده برای تولید نودهای پیشرفته و تراشههای با عملکرد بالا است.
چرا این موضوع اهمیت دارد: احتمال تغییر در رقابت نیمههادیها
براساس گزارش رویترز و تحلیل منابع صنعتی، نمونهعملی سازوکار تولید نور UV برای اِچکردن ویفر را داراست و در سطحی از عملکرد آزمایشی قابلراهاندازی بوده است. این دستاورد در مقیاس تکنولوژیک مهم است؛ زیرا دستگاههای EUV از پیچیدهترین ماشینآلات در فرآیند تولید تراشه به شمار میآیند و تا به امروز بازار این تجهیزات تقریباً در اختیار شرکت هلندی ASML و تأمینکنندگان اپتیک و منابع نور مرتبط با آن بوده است. اگر چین بتواند مسیر از نمونهعملی به ماشینهای تولید انبوه را طی کند، فاصله فناورانهای را که برای تولید نودهای پیشرفته وجود دارد، بهطور ملموسی کاهش خواهد داد و موقعیت در زنجیره جهانی نیمههادی تغییر خواهد کرد.
با این حال، چند نکته احتیاطی وجود دارد. منابع گزارش میدهند که مهندسان چینی در مراحل آزمایشی از قطعات و اجزای جداشده از واحدهای قدیمی ASML برای تکمیل نمونهعملی استفاده کردهاند؛ اقدامی که نشاندهنده ادامه وابستگی به قطعات وارده یا بازیافتی است. علاوه بر این، نمونهعملی تا این لحظه اعلام نشده که توانسته باشد یک تراشه کامل را به سمت «تِیپاوت» (tape-out) ببرد یا ویفرهای آزمایشی نهایی را با بازده تولید بالا ارائه کند. با این وجود سرعت پیشرفت قابلتوجه است و بسیاری از تحلیلگران انتظار چنین شتابی را نداشتند؛ برخی از داخلنشینان صنعتی پیشبینی کردهاند که لیتوگرافی EUV میتواند در چین تا حدود سال 2030 نسبتاً متداول شود که اگر محقق شود، سالها را از برآوردهای پیشین کم میکند و محاسبات استراتژیک دولتها و شرکتها را در واشینگتن و تایپه دگرگون خواهد ساخت.
آنچه هنوز نمیدانیم
- جزئیات فنی کلیدی هنوز نامشخصاند: منبع نور دقیق (مانند سیستم LPP با لیزر CO₂ یا نوع دیگری از تولید پلاسما)، طراحی و کیفیت اپتیکهای چندلایه، و ارقام توان عملیاتی (throughput) و زمانبندی پردازش ویفر تأیید نشدهاند؛ این اطلاعات برای ارزیابی واقعی قابلیت تولید صنعتی لازم است.
- یکپارچهسازی سیستم و بازده تولید حلنشده است: داشتن یک منبع نور که EUV تولید میکند تنها یک گام است؛ پیوند مؤثر بین منبع نور، سیستم اپتیکی، ابزارهای حرکت و موقعیتیابی ویفر، پردازشهای تمیزسازی پلاسما و کنترلهای نرمافزاری پیچیده لازم است تا به تولید منظم با بازده بالا برسیم.
- سؤالهای زنجیره تأمین ادامه دارد: ادامه استفاده از قطعات بازیافتی و اجزای قدیمی ASML نشان میدهد که هنوز خودکفایی کامل در تأمین قطعات کلیدی برقرار نشده است؛ از آیینههای مولتیلِیِر (multi-layer mirrors) و اجزای خلاء تا لیزرها و سیستمهای خنکسازی، مسیر تأمین داخلی کامل مستلزم توسعه شبکهای از تأمینکنندگان با تخصص بالا است.
چرا این شکافها اهمیت دارند؟ زیرا یک ماشین EUV که فقط نور ساطع میکند، با ابزاری متفاوت است که بتواند بهطور قابلاعتماد نودهای پیشرفته را در مقیاس تولیدی ماشینکاری کند. آزمون واقعی، فرایند تِیپاوت است — یعنی تکمیل طراحی تراشه و ارسال آن برای تولید روی ویفر — و توانایی سیستم برای تولید تراشههای کارآمد با بازده و کیفیت مناسب. تا زمانی که یک سامانه چینی بتواند تراشههای عملیاتی و با بازده بالا تولید کند، موانع فنی و تجاری زیادی باقی است: از کنترل کیفیت لایههای نانومقیاس و تکرارپذیری فرآیند تا تضمین زنجیره تأمین قطعات و ابزار دقیق.
با این وجود، زمینه کلی رقابت نشان میدهد که شتابی وجود دارد. رشد سریع تقاضای مرتبط با هوش مصنوعی و مراکز داده فشار قابلتوجهی بر ظرفیت تولید داخلی تراشه وارد کرده است؛ این فشار شرکتهایی مانند هواوی را ترغیب کرده تا با کارخانههای تولید تراشه داخلی مانند SMIC وارد همکاری شوند یا سرمایهگذاری بیشتری روی خطوط تولید و اکوسیستم داخلی انجام دهند. دولت چین نیز منابع وسیعی را در حوزه توسعه نیروی انسانی، مهندسی معکوس، و تقویت خوشههای صنعتی اختصاص داده تا وابستگی به تأمینکنندگان خارجی کاهش یابد. پیشرفتهای SMIC و برنامه راهبردی N+3 آن که هدفگذاری شده برای رقابت با فرایندهای مرسوم نسل 5 نانومتری است نمونهای از جهتگیری بلندمدت چین در ارتقای فناوری تولید تراشه است. این سیاستها و سرمایهگذاریها نشان میدهد که پروژههای لیتوگرافی EUV در قالب یک برنامه کلان صنعتی و راهبردی قرار دارند، نه صرفاً یک تلاش پژوهشی مجزا.
در حال حاضر، جامعه بینالمللی صنعت نیمههادی منتظر شواهد ملموس خواهد بود: آیا چین ویفرهای آزمایشی و نتایج تست را منتشر خواهد کرد؟ کی نمونهعملی اولین تراشههای خود را تِیپاوت میکند؟ و پرسش حیاتیتر این است که چه مقدار از اجزای این ماشین هنوز به قطعات قدیمی ASML متکی است؟ پاسخ به این سؤالات تعیین خواهد کرد که آیا با یک نماد نمادین روبرو هستیم یا آغاز یک تغییر واقعی در قدرت تولید جهانی نیمههادیها. در کنار این پرسشها، باید به اثرات تحریمی و تجاری نیز توجه داشت؛ شرکتها و کشورها ممکن است برای حفظ مزیت رقابتی یا امنیت تأمین، سیاستهای صادراتی و سرمایهگذاری خود را بازنگری کنند و این موضوع میتواند زنجیره تأمین جهانی را دوباره آرایش دهد.
منبع: wccftech
نظرات
لابکور
احساس میکنم بیش از حد بزرگش کردن، داشتن یه منبع نور EUV فقط یه مرحلهست. اپتیک، پاکسازی پلاسما، کنترل نرمافزاری و زنجیره تامین، همه باید حل بشه، تازه اونوقت میتونه تولید انبوه بیاره
توربو
کی نتایج تیپاوت رو میذاره؟ بدون ویفرهای با بازده بالا چطور میشه قضاوت کرد؟ شایعه یا واقعیت؟
ارزرو
معقول بنظر میاد، اما تا ۲۰۳۰ هم ممکنه طول بکشه، بازار تراشه رقابتیتر میشه، قیمتها رو باید دید
دادهپالس
وای، اگه واقعیه یعنی چین تونسته یه سنگ بزرگ برداره از راه، اما هنوز کلی علامت سؤال هست، مخصوصا اینکه از قطعات قدیمی ASML استفاده شده 🤔
ارسال نظر